7つの特長を搭載した全く新しいナノ表面粗さ計測器
「ナノセブン」の誕生です。
①短時間計測 ②広範囲計測 ③簡単操作 ④高精度計測 ⑤非接触計測 ⑥防振台不要 ⑦低コスト
お知らせ
23/12/15
ナノセブンで使用している「光ヘテロダイン干渉計測」について、株式会社 新樹社が発刊している月刊「トライボロジー11月号（12月10日発売）」にて「半導体CMP加工後の評価技術」（P48～52）として掲載されました。
23/12/4
来年2月にパシフィコ横浜で開催される「テクニカルショウヨコハマ2024」にナノセブン-40を実機展示いたします。
場所：パシフィコ横浜展示ホール ブースNo.F-11
日時：2024年2月7日（水）-9日（金）10：00～17：00
その他光学機器の新製品も展示いたします。
ぜひこの機会にナノセブン-40の測定の早さ、簡単さを実感してください
以下展示会公式Webサイトをご覧下さい。
https://www.tech-yokohama.jp/
23/10/1
ナノセブンの測定性能を大幅に向上させた「ナノセブン-40」のご案内です。
対物レンズの倍率を20倍から40倍にアップし、面分解能を4倍に向上させることにより、これまで表現できなかった凹凸を掲示できるようになりました。面分解能の向上により、
①粗さ測定値精度の向上
②形状測定精度の向上
③スクラッチ幅・深さ測定精度の向上
④反り形状測定精度の向上
など測定精度の大幅な向上が可能です。
23/9/6
本年10月に幕張メッセで開催される「ＣＥＡＴＥＣ2023」に「東京ビジネスフロンテ
ィア」内ブースにナノセブンを実機展示いたします。
場所：幕張メッセ ホール6 ブースNo.A131
日時：2023年10月17日（火）-20日（金）10：00～17：00
今回の出展は、東京都中小企業振興公社様との共同出展となります。
その他光学機器の新製品も展示いたします。
ぜひこの機会にナノセブンの測定の早さ、簡単さを実感してください
以下のURLから来場事前登録して頂きご来場願います。
https://www.ceatec.com/
「日本ものづくりワールド/機械要素技術展2023」の「MiraiTech 新価値創造展」内に
出展いたします。
場所：東京ビッグサイト 東5ホール ブースNo.41-32 枝番65
日時：2023年6月21日（水）-23日（金）10：00～18：00
この展示会は、中小機構主催の「MiraiTech 新価値創造展」（80社出展）での出展
となります。その他光学機器の新製品も展示いたします。
ぜひこの機会に測定の早さ、簡単さを実感してください
以下のURLからe招待券の発行をお願いいたします。
https://www.manufacturing-world.jp/tokyo/ja-jp/visit/e-ticket-ex/mtech.org-f915d0d1-dfaf-40a0-a7b3-3ea87b7b3158.html?co=ml_mtech-t-95maon-10
23/1/19
「Grindeng Technology Japan 2023」へ出展いたします。
場所：幕張メッセ8ホール ブースNo.001
日時：2023年3月8日（水）-10日（金）10：00～17：00（リアル展示）
この展示会は、研削・研磨加工に特化した展示会です。
ナノセブン展示予定です。
ぜひこの機会に測定の早さ、簡単さを実感してください
以下のURLから来場事前登録をお願いいたします。
https://www.gtj-expo.jp
「彩の国ビジネスアリーナ 2023オンライン」へ出展いたします。
日時：2023年2月1日（水）-15日（水）
以下公式WEBサイトからご入場ください。
https://saitama-bizmatch.jp
22/5/10
サイバーナビ(株)が運営しておりますWebサイト「＠engneer」に弊社「ナノセブン」が掲載されました。
詳細は以下URLよりご覧下さい。
https://www.atengineer.com/pr/tsukumo/
22/4/8
東京都中小企業振興公社が運営しておりますWebサイト「Web見本市」に弊社「ナノセブン」が掲載されました。
詳細は以下URLよりご覧下さい。
https://web-mihonichi.tokyo/company/nskint/
21/5/26
ナノセブンに待望の回転ステージが加わりました。従来からのXYZ3軸に加え、回転軸をプラスすることにより、大径ウエハなど大きな形状のものを計測することが可能となります。操作性も向上させておりますので、ぜひ一度ご覧ください。
ナノ粗さ高さ計測器
ナノセブン＜TN-Ａ1＞
ナノセブンは、レーザー光による非接触方式で計測対象物の表面粗さ、段差高さの形状をサブナノレベルの精度で、短時間かつ広範囲に計測する事が可能です。
ナノセブン導入の7つのメリット
特長1 計測時間短縮
100µm×100µmエリアの表面粗さをわずか25秒で計測します。※3µｍピッチで計測の場合。
AFMでは一般的に15分程度必要です。
特長2 広範囲計測
ナノセブンの計測範囲は、サンプルステージの可動領域に依存します。X軸（横軸）45mm、Y軸（奥行軸）45mmまで可動できるため、この領域内であれば理論的には一度に計測することが可能です。またサンプルステージの大型改造を実施することができ、より広い範囲の計測も可能です。
特集3 防振台不要
ナノセブンの採用している「光ヘテロダイン干渉計測式は、一般的な白色干渉計測と異なり、干渉縞による計測を使用していないため、外乱からのノイズに強く、防振台を必要としません。
特長4 簡単計測
原則として、計測対象物への特別な前処理は必要ありません。また真空設備も使用していません。専用のオペレーターがいなくても操作可能な簡単操作設計となっています。
特長5 高分解能
ナノセブンは光ヘテロダイン干渉計測方式を採用しており、光の波長の位相差を基準とした計測方法であるため、高さ分解能は0.1nm(ナノメートル）以下の計測が可能です。
特長6 非接触式計測
ナノセブンは赤色レーザーによる非接触型の計測器ですので、計測対象物に悪影響を与えません。また非接触であるため接触型の計測器と比較して高速計測が可能です。レーザー出力もわずか数ミリワットの低出力なので省エネルギーかつ安全な設計です。
特長7 低ランニングコスト
設置時に防振台や真空設備などの付帯設備の必要がなく、また消耗品もほとんどないため購入後のランニングコストを抑えることができます。また専用オペレーターも必要ないため人件費削減にも貢献いたします。
【１．ナノセブン＜TN-A1>：主な仕様 】
【２．他のナノ計測器との比較 】
【３．光ヘテロダイン干渉計の原理と精度 】
【４．校正について 】
【６．参考資料 】
１．ナノセブン＜ＴＮ－Ａ１＞の主な仕様
・計測は本体・コントロールＢＯＸ・計測用ＰＣで構成されています。
・卓上設置が可能でコンパクトなサイズになっています。
・Ｘ４５ｍｍ×Ｙ４５ｍｍのワイドレンジで計測が可能です。
| 仕様 一覧 | |
| 高さ方向分解能 | ０．１ｎｍ（ナノメートル） |
| 基準高さ測定範囲 | ０．５ｎｍ～３００ｎｍ |
| 計測方式 | 非接触方式 |
| 最大移動量 【※１】 | Ｘ：４５ｍｍ / Ｙ：４５ｍｍ |
| 光源 | Ｈｅ－Ｎｅ レーザー（632.8nm) |
| 対物レンズ | 倍率 ２０Ｘ / ＮＡ ０．４ |
| 電源 | ＡＣ１００Ｖ |
| 本体重量 | 約 ２７ｋｇ |
| 付属品 | ノイズフィルター |
| 外形寸法 | 本体： W220×D550×H420mm コントロールボックス：W172×D350×H315mm |
※本仕様は改良のため、予告なく変更する場合がございますので、ご了承下さい。
２．他のナノ計測器との比較
ナノセブンは、他の計測装置と比較して広範囲かつナノレベルの高さの計測が可能です。
３．光ヘテロダイン干渉計の原理と精度
◇通常の光干渉計測では、その原理にホモダイン干渉が用いられています。
◇同一周波数光の静止した干渉縞の強度を画像解析し計測されます。
◇光ヘテロダイン干渉法で形成した２つのレーザ光を計測対象へ照射する事で光の位相が発生します。
◇この光の位相差を電気的に検出する事で光波長を高さの基準とし図のような測定精度を得て保証しています。
４．校正について
『 段差標準ゲージ ＶＬＳＩ社/ＵＳＡ 』
・ナノセブンの校正には、米国VLSIスタンダード社の4種類の薄膜標準高さゲージを使用しています。この製品は米国の国立標準技術研究所の定める基準に基づいて製作されており、世界中の段差計測の基準として使用されています。
・以下の計測データでは、ゲージ中央部の基準段差（実測値20.2nm)を2Dで計測しています。
６．参考資料
米国ＶＬＳＩスタンダード社製「薄膜段差標準ゲージ」
ナノセブン＜ＴＮ－Ａ１＞☆nanotech 2017 新人賞受賞☆
